SQ型器皿清洗裝置微波罐溶樣罐燒杯

                                           SQ型器皿清洗裝置微波罐溶樣罐燒杯

 SQ型器皿清洗裝置微波罐溶樣罐燒杯適配我廠PFA溶樣罐（7、15、30、60ml）、鋼套消解罐內襯（10ml等）、各廠家微波消解儀內罐（如美國CEM、邁爾斯通、、屹堯、新儀、海能、新拓、萊伯泰科等廠家）、各類消解管、離心管、試管、燒杯、坩堝、試劑瓶等實驗室常用器皿以及石英罐。甚至用于ICP的霧化室和火炬管等的痕量清洗。

SQ型酸逆流器皿清洗裝置

一、 基本信息

    1、名稱：酸逆流器皿清洗裝置，型號：SQ-210型  SQ-330型   
    2、清洗對象：適配我廠PFA溶樣罐（7、15、30、60ml）、鋼套消解罐內襯（10ml等）、各廠家微波消解儀內罐（如美國CEM、邁爾斯通、、屹堯、新儀、海能、新拓、萊伯泰科等廠家）、各類消解管、離心管、試管、燒杯、坩堝、試劑瓶等實驗室常用器皿以及石英罐。甚至用于ICP的霧化室和火炬管等的痕量清洗。
    3、主要材質

  （1）腔體為高純所有與器皿接觸的部分均為高純實驗級PTFE材質。

  （2）加熱系統可按照客戶要求做成節能環保型的硅膠加熱片，功率為350W；或者是我公司的特氟龍加熱電熱板,功率為2000W。

二、工作原理

    利用亞沸的HF 、HCL 、HNO3、高純水、堿類等等實驗室常用酸、堿等常用溶劑的熱蒸汽來清洗反應管、試管、消解管、燒杯、坩堝、容量瓶等實驗室常用器皿。整個清洗過程是通過加熱板加熱產生的高純酸堿蒸氣對器皿的反復對流和冷凝淋洗作用下完成的，清洗器采用空氣冷卻而無需額外冷卻水，可以實現經濟安全的過夜工作，與常規的清洗或酸泡方法相比，蒸汽清洗法的清洗效果更好、更加潔凈無污染。

三、儀器性能及特點

    1、專業設計，結構簡單，操作方便，操作人員無需培訓；

    2、適用痕量分析器皿清洗，PFA及PTFE溶樣罐、微波消解罐內罐、燒杯、消解管、試管等；

    3、一次性處理量多達26、52、104個樣品（根據器皿大小而定），也可以根據器皿高矮設計成多層，更加高效，快捷；

    4、清洗過程中酸用量少，且清洗后的酸可重復使用，多次循環清洗，節省成本；

    5、密閉條件下進行酸蒸氣超凈清洗，防止實驗室污染；

    6、只有100%超純的酸蒸汽接觸需要清洗的器皿表面，所有接觸部件均采用高純實驗級Teflon材料，保證的清潔與低的本底值；

    7、表面污染物被清除后，干凈的器皿將不再接觸清洗過的溶劑——相比較酸缸浸泡，這是更為純凈的清洗。

四、特別說明：

    1、清洗器皿外徑在30mm 及以內， 桶總高度：260mm, 桶外徑210mm, 一層26孔 （可做3層，即一次性可清洗78個樣品）；

    2、清洗器皿外徑在30mm 及以內， 桶總高度：280mm,  桶外徑330mm, 一層50孔（可做3層，即一次性可清洗150個樣品）；

    3、以上所說的樣品數量是以我廠10ml消解罐內襯或PFA 15ml溶樣罐為參考，若是其他細長器皿，可根據實際長度設計層數和批次處理量；也可以按照客戶需求進行定向加工。

五、數據說明

    PPb級的清洗結果利用酸蒸清洗系統清洗后，結果證明，含PPm級金屬污染的容器可以降低為PPb級。

ZH-酸純化器利用熱輻射原理使酸氣冷凝制備高純酸試劑

• 產品簡介：

酸純化器：又稱酸純化系統，高純酸提純器，酸試劑提純器，高純酸蒸餾純化器等，實驗室工作中常常由于酸的純度較差，造成分析結果的偏差與錯誤。市售的超純酸往往由于價格較貴，很難滿足日常分析中對酸的大量需求。因此，提純優化酸的質量，是為經濟可行的途徑，我廠的酸純化器可用于實驗室如HNO3、HCl、HF、堿溶液和有機溶劑的純化，純化后的酸和Merck的一樣好，實驗后期可配套我單位Teflon特氟龍系列試劑瓶收取高純酸。

二、工作原理：

酸純化器是利用熱輻射原理，保持液體溫度低于沸點溫度蒸發，再將其酸蒸氣冷凝從而制備高純水和高純試劑，廣泛應用于樣品處理及分析實驗中。

三、 產品特點：

1、可以滿足ICP、ICP-MS低的檢測限需要及苛刻的分析應用中提供實驗室級超純酸，所用容器均采用Teflon耐腐蝕無吸附塑料，可處理如HNO3、HCl、HF等實驗室的常用酸。

2、實驗證明將金屬雜質含量約10ppb的酸經過一次蒸餾后，金屬雜質含量可以降低到0.01ppb左右。若對酸要求更高，可增加提純次數。

四、相關參數：

五、使用注意事項：
1、所有配件（控制器、電源線、加熱片等除外）放入按實驗要求一定濃度的酸液中浸泡，去除雜質。

2、加酸前必須做好個人防護如：防濺眼鏡、防酸手套等（蒸水除外）。

【電子級酸】：

適用于半導體生產過程中所用產品的清洗和蝕刻以及痕量金屬元素殘留分析，根據質控的金屬元素含量的數量和含量，劃分為4個級別：MOS級，VLSI級，ULSI級，SLSI級

MOS級（EL級）：控制十多個金屬元素，單項金屬元素雜質控制在100PPb左右

VLSI級：控制三十多個金屬元素，單項金屬元素雜質控制在10~100PPb

ULSI級：控制三十多個金屬元素，單項金屬元素雜質控制在10PPb以下

SLSI級：控制三十多個金屬元素，單項金屬元素雜質控制在1PPB以下

所謂的電子級酸，其實就是ppb或者ppt級的高純酸。

實驗數據（僅供參考）：儀器：CH-I 酸純化器；試劑：優級純的HF
蒸餾后，經中國地質大學地質過程與礦產資源國家重點實驗室ICP-MS檢測出HF中雜質的含量：

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